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產品詳情

  • 產品名稱：MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505

  • 產品型號：MX-1702E
  • 產品廠商：日本DNK大日本科研
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簡單介紹：
MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505 MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505 MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
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MX-1702E，無掩膜曝光裝置，小批量生產直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505


利用獨自的高速描畫「Point Of Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。


特長：

能夠用于研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光。
能夠對應以**PCB、高密度Packaging、平板顯示(FPD)等為首的MEMS等微細加工領域。
由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發成本和縮短市場供應時間。
此外,還可以根據客戶需求,提供相應的裝置構造。
マスクレス露光裝置

主要規格

  MX-1201 MX-1201 MX-1201E MX-1204 MX-1702E
*小線幅 (※1) 5μm 5μm 3μm 1μm 10μm
數據分辨率 0.5μm 0.5μm 0.25μm 0.122μm 1.0μm
*大基板尺寸 200 x 200mm 200 x 200mm 200 x 200mm 150 x 150mm 550 x 650mm
有效曝光范圍 200 x 200mm 200 x 200mm 200 x 200mm 150 x 150mm 550 x 650mm
激光主波長 405±5nm 375±5nm 405±5nm 375±5nm 405±5nm
曝光掃描速度 43.9ｍｍ/ｓ 22.5ｍｍ/ｓ 10.9ｍｍ/ｓ 92.2ｍｍ/ｓ
光學引擎裝配數量 1 7


※1　因光刻膠和顯影條件而異。


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